真空鍍膜為什麽要用到冷卻水（shuǐ）

為什麽也要用水冷卻？

主要是（shì）圓柱靶。磁控濺射靶在發（fā）射時會產生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來（lái）冷（lěng）卻射槍。同時（shí）還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍（dù）膜技術中zui突（tū）出的成就之一。它以濺射率高、基片（piàn）溫升低、膜基結合力好。
   從更深（shēn）層次研究（jiū）電子（zǐ）在（zài）非均勻（yún）電磁場中的運動規律 , 探討了（le）磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質（zhì）原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中zui突出的成就之（zhī）一。它以濺射（shè）率高、基片溫升低、膜（mó）基結合力好、裝置（zhì）性能穩（wěn）定。

     真空冷水機廣泛（fàn）應用於工業製冷，它能提供恒流、恒溫、恒壓，控製真空（kōng）電鍍設備的溫度，不同工藝流程（chéng）需（xū）要控製不同的溫度，真空電鍍設（shè）備中冷水機可以分為風冷式的冷水機和水冷式（shì）的冷水機，水冷式冷水機達到好（hǎo）的冷卻效果加冷卻水塔，風冷式冷水機對工作環境有要求（qiú），它通過熱風循環製冷，通風效果的好（hǎo）壞直（zhí）接影響到（dào）冷水機的（de）製冷效果。